再怎么复杂,也就是一个技术工程,没有什么不可逾越的障碍
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据新华网7月31日消息,上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机,预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。这条消息还透露,国家知识产权局此前公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”,在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。
# I& u* J' p) s- e7 k+ Z看了这条消息,估计那些“美吹“华为黑”又得如丧考妣,难过得想撞墙了。自从美国将中国企业华为、中国半导体产业列为科技战重点打击对象后,特别是对我们的芯片设限后,他们成天在舆论场上吹嘘芯片的“卡脖子”技术有多难突破,话里话外都是让我们别干了,干也干不成。
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对于芯片技术,这些人最爱扯的无疑是光刻机了,称其为“半导体工业皇冠上的明珠”,说光刻机有10多万个零件,是集中“全人类智慧的结晶”,中国人不可能靠一己之力突破。
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光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”,需要10多万个精密零件,这些我们都承认。相信绝大多数中国人都承认,光刻机技术的突破之路确实非常艰难,需要我们虚心向其他发达技术国家学习。这与我们过往突破“两弹一星一艇”、太空站、航空发动机、超超临界燃煤发电技术、特高压、航空母舰等所有大的技术工程一样,没有“脱一层皮”的精神是干不成的。贬低其难度,就是对中国科技工作者的不尊重。
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承认难度,绝非为了打击自信。我们对一些所谓专家学者不爽的是,他们张嘴就贬低中国人突破的所有技术难题,称“造芯片比造原子弹难十倍”“中国人不可能突破光刻机技术”等定性式的结论,一副他站在洋人一边就可以高人一等的样子。
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首先,光刻机技术并非什么高不可攀的新东西,我们中国人其实曾经也是世界“第一梯队”。
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新华网的这则消息表示,中国在1965年就研制出了65型接触式光刻机,1985年研制出的分步光刻机样机,当时与国外先进水平差距不超过7年。改革开放后,我国开始从国外购买光刻机。特别是自20世纪90年代起,阿斯麦等国外企业却迅速崛起,我们的企业缺乏资金投入,慢慢就掉了队。
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0 J" Z% }: i% Z5 L有人可能怪国家,觉得为什么没有坚持投入,但大家一定要体谅国家的难处。当年我们的国力不足以支持四处出击,以致这样的遗憾比比皆是,比如运十下马、暂缓核潜艇工程等。这也是国家通盘全局后作出的决定,说忍痛割爱也不为过,但这是没有办法的事,我们不能用今天的环境来看历史。毕竟当时我们要干的事太多,处处都需要钱和资源,必然存在一个取舍。
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, R/ D; X0 Y0 ?6 H3 h: l; Y当然,我们在这个过程中也不能说完全没有误判,就以光刻机为例,我们就把美国想得太好了,以为他们会遵守自己制订的市场规则,所以主要依托全球化的国际市场进采购,没有提防美西方国家耍阴招。中国光刻机龙头企业上海微电子,迄今为止总共也才投资20多亿人民币,而且大多还是2018年之后,可见我们当年对美国有多放心。% R$ v4 A5 h# H3 Z6 b
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所以大家觉得,光刻机没干出来是因为真的有多难吗?主要是因为我们没重视,投入的资源太少了而已。这四五年,国家稍微给点阳光和雨露,这好消息不就来了吗?# p7 t5 Y( ^( V. z5 F2 U8 |, \
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其次,阿斯麦光刻机确实集成了多国先进技术,但他真的就是“全人类智慧的结晶”不可逾越吗?
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我敢说,但凡被这种大词忽悠的人都是遇事不过脑子,缅甸电诈集团最合适的目标客户群体。当然,这些也有可能是长期被西方媒体和国内公知联合PUA综合征患者,脑浆、膝盖都和浆糊一样稀软。
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大家想一想,给荷兰的阿斯麦光刻机提供零部件的国家无非是德国、法国、日本、美国等不超过10个国家,人口约几亿人。不过少数几个西方国家,啥时候就成了全人类?也难怪,我们总有一些人爱拿西方世界几亿人代表全人类。
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* ?, e# S6 L8 V' _6 s再看看我们中国,一个14亿人口的工业大国,全球制造业老大,制造业总量、工业人口都远超这些国家之和,我们有什么道理干不出原理已知、技术路线已知的一件工业产品——光刻机呢?一些人自己不聪明,还以为中国人都和他们一样蠢!
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所以不管从哪个角度看,我们都应该对中国突破半导体“卡脖子”技术有信心。这则消息中,中国半导体行业协会副理事长于燮康告诉记者:“尽管我国半导体产业面临技术等各种挑战,但高速增长的国内市场规模也为产业升级优化提供了重要机遇。”" Z9 ^7 F- \8 X8 v" @- R. M: l
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作为半导体行业人士,于副理长的话无疑既客观,又符合辩证法,这才是理性的态度。我们有理由相信,在美国对华半导体技术设限的“春风”吹拂下,中国相关企业一定是“痛并快乐着”,拿下这块高地的时间离我们不会太远了。! A/ v: F+ r; H0 t t1 B2 N
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