世上无难事只要肯登攀,哪有什么造不出来的东西" L/ D, o" L1 J9 e4 {( m
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11月中旬,华为向国家知识产权局申请了一项涉及EUV光刻机及其关键部件的专利,专利申请号为202110524685X。如果华为制造出这样的光刻机扫描仪并实现可观的生产力、正常运行时间和产量,中国芯片制造商可以生产 7 纳米级以下技术的芯片。唯一的问题是什么时候。% I% y) z4 s5 l( Q2 I1 ?
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该专利申请涵盖了 EUV 光刻机的所有关键组件,包括13.5 nm EUV 光发生器(光源)、一组反射镜、光刻系统和“控制管理技术”。
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申请专利并不等于能够制造一台EUV 光刻机,这是一台高度复杂的机器,具有许多最先进的组件,必须完美协同工作并长时间工作。此外,即使手头有EUV 工具,芯片制造商仍然需要为掩模、抗蚀剂和大批量生产所需的许多其他东西找出合适的薄膜。
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* a! b. c; z( V/ Z% s$ f! R目前,只有英特尔、美光、三星、SK海力士和台积电使用或计划使用 ASLM 的 EUV 光刻机。此外,只有这五家公司已经开发或计划开发足够复杂的工艺技术来利用
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8 V: x7 u D8 D! x3 A1 h: `同时,由于瓦森纳的安排,中国的中芯国际无法获得已经采购的EUV 光刻机来开发自己的基于 EUV 的制造工艺。因此,中国对 EUV 光刻机的潜在需求是存在的。 5 A, i/ i9 H+ s; g
作为年收入约1000亿美元的世界级高科技企业集团,华为追求不同的目标并开发了许多技术,不限于芯片生产,还包括建造晶圆厂设备。
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