据央视《朝闻天下》报道，总投资240亿美元的国家存储器基地项目近日在武汉东湖高新区正式开工。% P4 @' l/ |! m. P
- ~5 |% U9 L9 w. s' I: X: t9 I6 u 据悉，2020年全面建成后，年产值将超过100亿美元，实现我国集成电路存储芯片产业规模化发展“零”的突破。
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, i) U3 P/ L% i& [4 E2 O, N 国家存储器基地项目位于武汉东湖高新区武汉未来科技城，将建设3座全球单座洁净面积最大的3D NAND Flash FAB厂房、一座总部研发大楼和其他若干配套建筑，其核心生产厂房和设备每平方米的投资强度超过3万美元。
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项目一期计划2018年建成投产，2020年完成整个项目，总产能将达到30万片/月，年产值将超过100亿美元。
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+ P: l, Y1 C" P) Q 存储器是信息系统的基础核心芯片，最能代表集成电路产业规模经济效益和先进制造工艺，同时也是我国进口金额最大的集成电路产品3 G% P5 M, T: L- @. C* C! H/ h
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